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ナノインプリントの技術と開発戦略

ナノインプリント技術を61(一部本書独自の呼称)に分類,解析!基礎技術から応用まで3,577件の特許公報を精査,出願人(法人,個人)数は国内310,外国320!大学・研究所出願,特許公報一覧,登録番号対照,主要パテントファミリーなど,豊富なデータを満載!

商品概要

略称
ナノインプリント
商品 No.
bk7311
発刊日
2011年05月01日(日)
ISBN
978-4-7813-0306-2
体裁
A4判,373ページ
価格
86,400円(税込)
送料
当社負担(国内)
発行
シーエムシー出版
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
監修
(編集)(株)シーエムシー出版 (制作協力)クレストン
発刊にあたって
 半導体デバイスや記録媒体,光学デバイスから電子ディスプレイ,μTAS・MEMSまで,微細パターン形成技術は基幹的な工業技術となっている。より微細でより簡易なパターン形成加工技術の確立が求められてきた。


 「ナノインプリントリソグラフィー」というナノサイズの微細凹凸パターン形成技術が,S.Y.Chouらにより提唱されたのは,1996年である。同技術はプレス装置を用いた従来のホットエンボス技術を,リソグラフィーに応用したものである。今までの代表的なリソグラフィー技術であるフォトリソグラフィーにおける露光・現像工程を不要とし,大幅なプロセスの簡略化が図られる。さらに紫外線利用のフォトリソグラフィー以上に超微細な凹凸パターンの形成を可能とするものだった。その革新性は,世界を驚嘆させた。


Chouらによる提唱から10余年にすぎない今日,すでにナノインプリント装置も発売され,多くの関連新技術も次々と提案され,技術開発は全世界的な動きとなっている。

 微細加工技術は日本企業が得意とするものであり,それを支える周辺産業も充実している。多くの研究機関,大学,企業の取組みも活発になっている。ナノインプリント産業が日本の基幹産業の一翼として,また日本ならではの先進技術として発展することが期待される。



本書は,熱ナノインプリント,光ナノインプリント,およびマイクロコンタクトプリントなどの基幹技術に止まらず,そこから派生する数多くの提案技術にも注目し,関連特許公報の精査,解析により,ナノインプリント技術の発展の全貌を明らかにするとともに,今後の展望をみたものである。関連産業に携わる企業の方々,研究に関わる方々,これらの技術に注目されている方々に本書のご一読をお勧めする。
書籍・DVDの内容
第1編 ナノインプリントの技術と展開

1章 ナノインプリントの開発

1 微細凹凸パターン形成方法

 (1)型転写法

 [1]射出成形法

 [2]プレス成形法

 [3]注型成形法

 (2)フォトリソグラフィ

2 ナノインプリントの開発と技術

 (1)熱ナノインプリント

 (2)光ナノインプリント

 (3)ソフトリソグラフィ

3 ナノインプリント技術の分類と種類

4 ナノインプリントの応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

  2)半導体デバイス

  3)光・光デバイス 

  4)電子ディスプレイ

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

 [3]環境,エネルギー関連

5 ナノインプリントの関連文献

第2編 ナノインプリントの特許動向の概要

2章 特許動向の解析と概要

1 関連特許の調査解析対象

 (1)調査解析の対象

 (2)関連用語

2 特許動向の概要

 (1)ナノインプリント特許の分類別件数推移

 (2)ナノインプリント特許の分類別件数構成比

3 主要特許とパテントファミリー

第3編 ナノインプリントの技術と特許動向

3章 熱ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 [1]転写方法

  1)プレス方法

  2)加熱,冷却条件

  3)転写層のプレス加工

 [2]離型方法

 (2)転写材料

 [1]樹脂

 [2]添加剤

 [3]物性

 [4]複層転写層

 (3)モールド

 [1]形状

  1)凹凸形状

  2)湾曲モールド

  3)円筒状モールド

 [2]特性

 [3]被覆層

 [4]複層構造

 [5]作成方法

  1)成膜・離型

   (a)注型成形

   (b)乾式成膜

   (c)湿式成膜

  2)エッチング加工

  3)直接加工

 (4)離型剤

  1)有機系

  2)無機系

 (5)転写装置

 [1]複数のモールド,基板

 [2]プレス装置

  1)圧縮緩衝装置

  2)プレス条件の設定

 [3]加熱・冷却装置

  1)加熱装置

  2)冷却装置

 [4]モールド・基板支持部材

  1)モールド支持部材

  2)基材支持部材

  3)モールド,基材支持部材

 [5]周辺制御装置・機構

  1)位置制御

  2)傾き制御

  3)駆動制御

 (6)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

   (a)磁気記録媒体

   (b)光記録媒体

   (c)磁気・光記体

  2)光デバイス

  3)電子ディスプレイ

   (a)LCD

   (b)EL

   (c)FED

  4)光デバイス

   (a)発光素子

   (b)照明装置

   (c)フォトニック液晶

   (d)偏向子

   (e)遮光フィルム

  5)その他

   (a)インクジェットヘッド

   (b)導電性回路

   (c)異方性導電層

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

  1)マイクロ化学・バイオチップ

   (a)マイクロ流路システム

   (b)マイクロアレイチップ

  2)化学・バイオセンサ

  3)医療機器・機材

 [3]環境,エネルギー関連

4章 光ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 [1]転写方法

 [2]転写材料の塗布

  1)塗布方法

  2)塗布領域の制御

  3)塗布後の処置

 [3]プレス方法

  1)ソフトプレス

  2)加振プレス

  3)光照射方法

 (2)転写材料

 [1]転写材料

  1)ラジカル重合タイプ

  2)カチオン重合タイプ

  3)ラジカル重合またはイオン重合タイプ

   (a)(メタ)アクリレート系

   (b)エポキシ系

   (c)環化重合系

 [2]添加剤

 [3]材料特性

 [4]転写層上の機能層

 (3)モールド

 [1]形状

  1)凹凸形状

  2)全体形状

  3)非平板モールド

 [2]材料

 [3]被覆層

 [4]複層構造

 [5]補助構造

 [6]作成方法

  1)無機系モールド 

  2)樹脂系モールド

 [7]周辺部材

 (4)転写装置

 [1]転写材料の塗布装置

 [2]位置決め装置,機構

 [3]光照射装置

 (5)転写後の処理

 (6)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

(a)磁気記録媒体

(b)光記録媒体

  2)半導体デバイス

  3)電子ディスプレイ

  4)光デバイス

5章 超音波支援型熱ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

6章 電磁波支援型熱ナノインプリント

1 概要

2特許展開

7章 常温ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写装置

 (3)応用

8章 溶媒補助型ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

9章 加圧気体浸透型ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

10章 近接場光型光ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

11章 定温ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

12章 フォトリソグラフィ複合型光ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)モールド

 (4)応用

13章 ドライフィルムレジスト型ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)応用

14章 軟化剤除去型ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

15章 モールド分解型ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)モールド

16章 フレキシブルナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

17章 高温焼成型ゾルゲルナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写材料

 (2)モールド

 (3)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

 [2]環境,エネルギー関連

18章 室温ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)転写装置

 (4)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

  2)電子ディスプレイ部品

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

19章 光硬質型室温ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

20章 乾燥膜刻印型ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

21章 樹脂溶出型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

22章 キャビティ内重合型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

23章 硬質モールド型毛細管マイクロモールド(硬質型MIMIC)

1 概要

2 特許展開

24章 硬質モールド型毛細管力リソグラフィ(硬質M型CFL)

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)モールド

25章 ギャップ充填型毛細管力リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

26章 リバーサルナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

27章 ナノキャスティング

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)モールド

28章 液状転写層型ナノキャスティング

1 概要

2 特許展開

29章 硬質モールド型マイクロコンタクトプリント(硬質M型μCP)

1 概要

2 特許展開

30章 カソードトランスファー

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

31章 無機薄膜型リバーサルナノインプリント

1 概要

2 特許展開

32章 コールドウェルディングリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

33章 堆積型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

34章 静電引力型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

35章 Aレジストナノインプリント/共通

1 特許展開

 (1)転写技術

 [1]プレス方法

  1)流体圧力プレス

  2)磁力プレス

  3)慣性圧力プレス 

  4)超音波振動プレス

 [2]モールドの圧入構造

 [3]モールド,基板の組合わせ

  1)複数種のモールド

 [4]離型方法

 (2)転写材料

 [1]転写材料

 [2]転写層

  1)形状

  2)複層構造

  3)転写層の加工処理

 (3)モールド

 [1]材料

 [2]形状

  1)凹凸形状

  2)表面粗さ

  3)断面形状

  4)凹凸領域の周辺形状

  5)多版型モールド

 [3]被覆層

 [4]複層構造

 [5]補助構造体

 [6]作成方法

  1)モールド原盤利用

(a)インプリント単独

(b)後工程/エッチング

(c)後工程/めっき成膜

(d)後工程/その他

  2)モールド原盤非利用

(a)電子線リソグラフィ

(b)その他リソグラフィ

(c)関連技術

  3)非レジストリソグラフィ

(a)陽極酸化

 [7]修復,クリーニング

  1)修復

  2)切断加工

  3)クリーニング

 (4)離型剤

 [1]有機系

 [2]無機系

 (5)転写装置

 [1]転写材料関連

  1)転写材料の供給 

  2)転写材料の充填,検査

  3)パターン層の検査

 [2]モールド関連

  1)形状の検査,計測

  2)モールド支持

  3)位置合わせ

(平行調整)

  4)位置合わせ

(距離調整)

  5)モールドの傾き計測

  6)プレス

 [3]基板支持関連

  1)支持部材

 [4]圧力環境

 [5]離型関連

 [6]その他

  1)エネルギー供給 

  2)関連工程の組み合わせ

 (6)離型後の処理

  1)変性処理

  2)凸部の加工,補修

 (7)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

   (a)磁気記録媒体

   (b)光記録媒体

  2)半導体デバイス

   (a)半導体デバイス

   (b)電界効果トランジスタ

   (c)薄膜トランジスタ

   (d)メモリ素子・装置

  3)電子ディスプレイ

   (a)LCD

   (b)EL

   (c)電気泳動表示装置

   (d)プラズマディスプレイ

  4)光・光学デバイス

   (a)半導体発光素子

   (b)光導波路

   (c)フォトニック液晶

   (d)偏光素子

   (e)位相差・波長素子

   (f)回折素子

  5)その他

   (a)インクジェットヘッド

   (b)物理センサ

   (c)露光用マスク

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

  1)マイクロ化学・バイオチップ

   (a)マイクロ流路システム

   (b)マイクロアレイチップ

  2)化学・バイオセンサ

   (a)化学センサ

   (b)バイオセンサ

   (c)化学またはバイオセンサ

  3)医療機器等

   (a)マイクロニードル

 [3]環境,エネルギー関連

  1)燃料電池

 [4]その他

  1)配線基板

  2)多孔質構造体

36章 直接ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)モールド

 (4)応用

 [1] 汎用微細構造体

  1)多孔性陽極酸化膜

 [2]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

  2)電子デバイス

  3)電子ディスプレイ部品

  4)光部品

 [3]バイオ,ライフサイエンス関連

37章 加熱型直接ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)モールド

 (4)転写装置

 (5)応用

 [1]汎用微細構造体

 [2]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

  2)電子ディスプレイ部品

  3)光通信部品

38章 静電引力型直接ナノインプリント

1 概要

2 特許展開

39章 AレジストナノインプリントとB直接ナノインプリント/共通

1 特許展開

 (1)転写技術 

 (2)モールド

 [1]材料 

 [2]形状

 [3]複層構造

 [4]表面特性

 [5]製造方法

 [6]補修,洗浄

 (3)転写装置

 (4)応用

 [1]汎用微細構造体

 [2]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

 [3]環境・エネルギー関連

40章 マイクロコンタクトプリント(μCP)

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)モールド

 [1]材料

 [2]形状,構造

  1)凸部形状

  2)面形状

  3)構造

 [3]表面処理・加工

 [4]作成方法

 (4)転写装置

 (5)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

   (a)光記録媒体

  2)半導体デバイス

   (a)半導体デバイス

   (b)有機半導体デバイス

   (c)有機電界効果トランジスタ

   (d)有機薄膜トランジスタ

  3)電子ディスプレイ

   (a)LCD

   (b)有機EL

  4)光デバイス

   (a)発光素子

  5)その他

   (a)インクジェットヘッド 

   (b)圧電素子 

   (c)マイクロレンズアレイ

   (d)コンタクトレンズ

   (e)ナノワイヤ

   (f)導電パターン 

   (g)隔壁

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

  1)マイクロ化学・バイオチップ

   (a)マイクロ流路システム

   (b)マイクロ化学チップ

  2)化学・バイオセンサ

   (a)化学センサ

   (b)バイオセンサ

  3)医療用部材

 [3]環境・エネルギー関連

  1)燃料電池 

  2)太陽電池

 [4]その他

  1)電極パターン

   (a)直接形成・加工

   (b)マスク材利用

  2)撥液性,親液性パターン

41章 マイクロトランスファーモールド

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術 

 (2)応用

42章 ナノトランスファープリント

(μTM)

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

43章 ガス圧支援型マイクロコンタクトプリント

1 概要

2 特許展開

44章 毛細管マイクロモールド

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)モールド

 (3)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

 [3]その他

45章 溶媒促進マイクロモールド

46章 毛細管力ソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

47章 エッジトランスファーリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

48章 加圧充填型ソフトリソグラフィ

49章 レプリカモールド

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

 [1]IT,エレクトロニクス関連

 [2]バイオ,ミカルス関連

50章 リキッドエンボス

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)応用

 [1]汎用微細構造体

 [2]IT,エレクトロニクス関連

51章 リフトアップリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

52章 ディーカルトランスファーリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

53章 フォトリソグラフィ複合型ソフトリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

54章 近接場位相シフトリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

55章 表面改質型ソフトリソグラフィ

1 概要

2 特許展開

56章 Cソフトリソグラフィ/共通

1 特許展開

 (1)転写技術

 (2)モールド

 [1]材料

 [2]形状,構造

 [3]作成方法

 [4]補助部材

 (3)応用

 [1]汎用微細構造体

 [2]IT,エレクトロニクス関連

  1)半導体デバイス

   (a)有機電界効果トランジスタ

   (b)有機薄膜トランジスタ

  2)光デバイス

  3)電子ディスプレイ

 [2]バイオ,ライフサイエンス関連

  1)マイクロ化学・バイオチップ

   (a)マイクロ流路システム

   (b)マイクロアレイチップ

  2)化学・バイオセンサ

  3)医療機器・機材

 [3]環境,エネルギー関連

57章 AレジストナノインプリントとCソフトリソグラフィ/共通

1 特許展開

 (1)転写材料

 (2)モールド

 (3)転写装置

 (4)応用

 [1]汎用微細構造体

 [2]IT,エレクトロニクス関連

  1)記録媒体

  2)電子デバイス

  3)光デバイス

  4)電子ディスプレイ

 [3]バイオ,ケミカルス関連

  1)マイクロバイオ・化学チップ

   (a)マイクロ流路システム

   (b)バイオチップ

 [4]環境・エネルギー関連

58章 化学的変性型リソグラフィ

1概要

2特許展開

59章 ナノ電極リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)転写材料

 (3)モールド

 (4)転写装置

 (5)応用

60章 帯電リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術 

 (2)モールド

 (3)応用

61章 磁性変性型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

62章 結晶性変性型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

63章 加圧相変性型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

64章 プラズマエッチング型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

65章 光触媒リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

 (1)転写技術

 (2)応用

66章 燃焼除去型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開

67章 昇華除去型リソグラフィ

1 概要

2 特許展開 第4編 主要企業の特許展開

68章 主要企業の特許展開

 [1]セイコーエプソン

 [2]キヤノン

 [3]東芝

 [4]TDK

 [5]リコー

 [6]富士フイルム

 [7]凸版印刷

 [8]フィリップス

 [9]富士ゼロックス

 [10]パナソニック

69章 大学研究者の出願動向

第5編 関連特許公報一覧

70章 関連特許公報一覧

 [1]調査解析テーマと対象範囲と対象期間

 [2]関連特許公報一覧の作表基準

 [3]年別公開・公表・再公表特許公報一覧

 [4]年別公開特許-特許番号対照

 [5]特許番号-公開・公表・再公表特許対照
キーワード
ナノインプリント,特許,技術,書籍

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