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実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説!

レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決

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セミナー概要

略称
レジスト材料
セミナーNo.
150652  
開催日時
2015年06月19日(金)10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
商工情報センター(カメリアプラザ) 9F 研修室
価格
非会員: 49,980円(税込)
会員: 47,250円(税込)
学校関係者: 10,800円(税込)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円(税込)から
 ★1名様申込の場合、47,250円(税込)へ割引になります。
 ★2名様同時申込の場合、2人目無料(2名で49,980円)になります。
学校関係者価格は、企業に在籍されている研究員の方には適用されません。
備考
昼食・資料付き

講座の内容

受講対象・レベル
初めてレジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、初心者から実務者まで広範囲の方を対象としています。
習得できる知識
レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、などが習得できます。
趣旨
現在、フォトレジストは、産業の様々な分野で広く利用されています。しかし、その高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。本セミナーでは、これからレジスト材料を使用する方、レジストリソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。受講者が抱えている日々のトラブル相談にも応じます。
プログラム
1.レジスト・リソグラフィ入門
  1-1 リソグラフィプロセスの基礎(レジストとは?)
  1-2 レジストコントラストの理解(なぜコントラストが重要か?)
  1-3 段差部でのパターン形状設計(膜内多重反射、バルク効果)
  1-4 先端リソグラフィ(位相シフトマスク、液浸リソグラフィ)
  1-5 エッチングマスクとしてのレジストパターン
  1-6 検査技術(SEM、AFMのポイント)
2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策
  2-1 レジスト付着性を促進する要因(表面エネルギー、凝集力、応力緩和)
  2-2 レジスト付着性を低下させる要因(応力集中、溶液浸透、パターン間メニスカス)
  2-3 表面エネルギーからレジスト付着性を予測する
    (付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル)
  2-4 ドライ中での付着性は溶液中と逆の結果になる(γp効果、最適条件の設定法)
  2-5 HMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
    (処理温度と処理時間、付着性と密着性の差)
  2-6 Al膜上でのレジスト付着不良(WBL、複合表面処理)
  2-7 パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい(応力集中効果、表面硬化層の影響)
  2-8 レジスト膜の応力をin-situ測定する(応力緩和と発生、乾燥プロセス変動)
  2-9 レジスト膜の膨潤をモニタする(アルカリ液の浸透、屈折率評価、導電性解析)
  2-10 レジスト膜の欠陥発生メカニズムと対策
    (環境応力亀裂、濡れ不良、ポップアップ)
  2-11 ドライフィルムレジスト(DFR)の付着性(メッキ時のEaves不良)
  2-12 ナノインプリントにおける剥離残差対策(疎水化による離型処理)
  2-13 ウォーターマーク(乾燥痕)はこうして発生する
    (乾燥メカニズム、液体内の対流効果、微粒子凝集、パターン形状依存性)
  2-14 レジスト表面の微小気泡対策(気泡のピンニング効果)
3.レジスト材料プロセスの高品位化
  3-1 微小パターンの物性(表面サイズ効果、相互作用因子とは)
  3-2 レジストパターン1個の付着力を実測する
    (DPAT法、ナノサイズの付着力の実験式)
  3-3 高分子集合体をマニピュレーションする(レジストパターンからの集合体分離)
  3-4 レジスト膜中のナノ空間を見る(vacancy、パターン構造設計)
  3-5 レジストパターン1個のヤング率を実測する(測定方法、強度設計)
  3-6 レジスト膜表面にはナノ硬化層が存在する
    (AFMインデンテーション法、断面硬化層分布、LER評価)
  3-7 レジスト膜表面のナノ気泡を見る(AFMナノバブル観察)
4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなど)

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