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１．成膜プロセスと薄膜形成現象を理解したい
Introduction 成膜方法により生じる膜質変化の具体例
1-1.何に注目して成膜プロセスの制御を考えるのか
1-2.スパッタと真空蒸着の違い
1-3.成膜装置と真空をあつかうための必要最小限の基礎知識
1-4.薄膜の初期構造や微視的組織はどのように形成されるのか
1-5.膜形成プロセスを利用した膜質制御の具体例と成膜最適化の考え方
２．膜の均一性・均質性を制御したい
Introduction 膜質を効果的に制御する具体例
2-1.スパッタリングの成膜環境
2-2.プラズマとは：制御パラメータと評価方法
2-3.イオン・高エネルギー粒子の照射現象
2-4.膜質制御の具体例
・段差被覆性
・膜質（密着性・比抵抗）の面内均一性
・硬質コーティングの多機能化
３．膜応力を低減したい
Introduction 膜応力が原因となった不具合とその対策の具体例
3-1.膜応力とは
3-2.応力発生のメカニズム
3-3.多層膜やパターニングされた薄膜の応力で注意する点
3-4.膜応力を低減させる成膜手法の具体例とその考え方
４．密着力を良くしたい
Introduction よくある剥離トラブル事の対応における失敗例
4-1.薄膜の密着力とは
・基板と薄膜の界面の構造
・異種材料界面がくっついている根本的な原因と界面に働く相互作用
・密着と粘/接着との違い
4-2.剥離を起こしている材料的要因を簡単に絞り込む方法
4-3.密着性を改善するには
・Griffithの破壊の考え方と剥離を起こさせない条件
4-4.密着性を向上させる様々な方策
4-5.密着性をどのように評価するか
4-6.スクラッチ試験による密着力測定と材料設計への活かし方
５．まとめ