2024年04月22日（月）
13:00～17:00
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３）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始
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・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
・フォトレジスト材料開発・原材料開発に携わる若手を中心とした技術者。
・技術者ではないが半導体材料に興味のある方（特に前半）。
・フォトレジスト材料の基礎が理解できる。
・最近の日本の半導体関連の騒動？も簡単に分かりやすく解説するので状況が理解できる。
・後半は、限界説のささやかれる化学増幅型レジストと、
最近話題のメタルレジストに関し分かりやすく解説するので、概況が理解できる。
もちろん最新の開発動向も。
昨今、私たちは新たなデジタル社会に直面、半導体の重要性が以前にも増して重要となっており、毎日のように半導体という言葉を耳にする。IOT、AI、Society5.0等の発展のため、デバイスの高速化、大容量化、省電力化が不可欠で、そのための配線微細化は必須である。それを支えるリソグラフィ微細化には、フォトレジスト材料が鍵技術であり、究極の微細化として期待されたEUVリソグラフィは、35年の時を経てついに2019年に実用化された。
地政学的観点からも半導体は日本にとって重要なピースとなり政府の半導体への取り組みも前のめりである。簡単に日本の半導体産業への取り組み（RapidusやLSTC等）について解説したのち、レジストの基礎から現在に至る課題まで時間の許す限り解説する。
フォトレジスト開発に関わる若手技術者から入門者、さらには材料に詳しくない方々に向けて分かりやすく解説する。
１． 私たちの世の中を取り巻く環境の変化
昨今話題の日本の半導体産業。RapidusやLSTCって？
２． リソグラフィ微細化の歴史
2-1. リソグラフィ？フォトレジスト？どこに使われてる？
2-2. ムーアの法則とそれを実現するリソグラフィ微細化の歴史
2-3. フォトレジストのケミストリーと要求性能
2-4. KrFからArF、そしてArF液浸。何が難しかったのか？
2-5. 富士フイルムによるネガ現像技術（NTD）の発明
３． EUVリソグラフィ
3-1. EUVリソグラフィの歴史
3-2. 最初に立ちはだかった大きな課題、アウトガス問題
3-3. EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子に関して
3-4. フォトンストカスティックとケミカルストカスティック/解決手段例
3-5. 限界といわれる化学増幅型レジストとメタルレジスト
【質疑応答】
フォトレジスト,リソグラフィ,微細化,EUV,ArF,NTD,WEB,セミナー,講演,研修
