原子層堆積(ALD)法の原理・特徴・装置といった基礎から、薄膜の特性評価、用いられる材料群、成膜条件・注意点、エネルギーデバイス作製や各種材料の表面改質への応用、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術まで!

原子層堆積(ALD)法による
薄膜作製技術の基礎と応用・技術トレンド【WEBセミナー】
~原理・優位性・材料・成膜条件・注意点・新技術・展望など~

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セミナー概要
略称
ALD【WEBセミナー】
セミナーNo.
st211210
開催日時
2021年12月10日(金) 13:00~16:30
主催
サイエンス&テクノロジー(株)
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
価格
非会員:  35,200円 (本体価格:32,000円)
会員:  33,440円 (本体価格:30,400円)
学生:  35,200円 (本体価格:32,000円)
価格関連備考
定 価 :1名につき 35,200円(税込)
会員価格:1名につき 33,440円 2名の場合 44,000円、3名の場合 66,000円(税込)

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※セミナー請求書は代表者のメールアドレスにPDFデータを添付しお送りいたします。
備考
※資料付(電子媒体:PDFデータ/印刷可)
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

【ライブ配信(Zoom使用)セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・お申し込み後、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・セミナー中、講師へのご質問が可能です。
講座の内容
受講対象・レベル
原子層堆積法の導入を検討されている方。
原子層堆積法について興味のある方であれば、初心者でも受講可能。
習得できる知識
ALD技術の基礎、ALD技術を用いた応用例、薄膜作製技術、ALD装置
趣旨
 原子層堆積(ALD)法はその名前の通りに、原子1層レベルの厚みで膜厚を制御しながら薄膜を作製する技術として注目されています。一方で、どういった材料が成膜可能か、どのようなデバイスへの成膜が可能かを理解するためにはその原理を理解しておくことが重要です。
 本セミナーでは原子層堆積法の基本的な原理、どのような装置で実現可能かといった技術的を説明すると共に、一般的に用いられる真空蒸着等の薄膜形成技術との異なる部分にも注目し、技術の有効性について説明を行います。また、エネルギーデバイスへの応用やソフトマテリアルなどへの適用などのアプリケーションに関する説明、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術のトレンドを紹介いたします。
プログラム

1.原子層堆積(ALD)とは
 1.1 微細加工技術で用いられる様々な薄膜作製技術.
 1.2 原子層堆積法の歴史
 1.3 原子層堆積法の原理と特徴
 1.4 原子層堆積法を実現する装置
 1.5 原子層堆積法で得られる薄膜と特性評価
 1.6 原子層堆積法で用いられる材料群
 1.7 成膜する場合の条件、注意点
 
 
2.原子層堆積法の応用と展望
 2.1 エネルギーデバイス作製への応用
 2.2 各種材料の表面改質への応用
 2.3 新しい技術と今後の展望

 □質疑応答□

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