１．成膜プロセスと薄膜形成現象を理解したい
1-1.成膜方法により生じる膜質変化の具体例
1-2.スパッタと真空蒸着の違い
1-3.成膜装置と真空をあつかうための必要最小限の基礎知識
1-4.薄膜の初期構造や微視的組織はどのように形成されるのか
1-5.成膜パラメータの制御やプロセスの最適化で注意したいポイント
２．膜の均一性・均質性を制御したい
2-1.膜質を効果的に制御する具体例
2-2.プラズマとは
2-3.プラズマ状態を知ることによる効果
2-4.プラズマの状態を知る方法
・プラズマ特性と電子エネルギー分布関数の評価
・a-C膜にみるプラズマパラメータと微細構造との関係
・膜質の不均一性：プラズマの影響
・イオン・高エネルギー照射現象と膜質の改善
・イオン照射と残留応力の関係：Davisモデル
・段差被覆性の改善
３．膜応力を低減したい
3-1.膜応力が原因となった不具合とその対策の具体例
3-2.応力発生メカニズムと応力制御のための基礎知識
3-3.多層膜やパターニングされた薄膜の応力で注意する点
3-4.膜応力低減の各種手法とその考え方
3-5.膜応力の評価手法のポイント：X線回折法・ラマン分光法・基板曲率法
４．密着力を良くしたい
4-1.薄膜の密着力問題に対処する具体例
4-2.基板と薄膜の界面をしっかり観察する
4-3.剥離を起こしている材料的要因を簡単に絞り込む方法
4-4.密着性改善の考え方
4-5.密着性改善のための具体的な対策
4-6.スクラッチ試験による密着力測定と材料設計への活かし方
５．まとめ