★リソグラフィの基礎からレジスト・微細加工用材料の最新技術とその要求特性、課題・対策まで速習!
※本セミナーは【LIVE配信】と【アーカイブ配信:12/13~12/28(何度でも受講可能)】がございます。
詳細は下記に記載されている備考欄をご確認下さい。
1.リソグラフィの基礎
1-1.露光
(1)コンタクト露光
(2)ステップ&リピート露光
(3)スキャン露光
1-2.照明方法
(1)斜入射(輪帯)照明
1-3.マスク
(1)位相シフトマスク
(2)光近接効果補正(OPC)
(3)マスクエラーファクター(MEF)
1-4.レジストプロセス
(1)反射防止プロセス
(2)ハードマスクプロセス
(3)化学機械研磨(CMP)技術
1-5.ロードマップ
(1)IRDSロードマップ
・リソグラフィへの要求特性
・レジスト・微細加工用材料への要求特性
(2)微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
2.レジストの基礎
2-1.溶解阻害型レジスト
(1)g線レジスト
(2)i線レジスト
2-2.化学増幅型レジスト
(1)KrFレジスト
(2)ArFレジスト
(3)化学増幅型レジストの安定化技術
3.レジスト・微細加工用材料の最新技術
3-1.液浸リソグラフィ
(1)液浸リソグラフィ用トップコート
(2)液浸リソグラフィ用レジスト
・液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
・液浸リソグラフィ用レジストの設計指針
3-2.ダブルパターニング、マルチパターニング
(1)リソーエッチ(LE)プロセス用材料
(2)セルフアラインド(SA)プロセス用材料
3-3.EUVリソグラフィ
(1)EUVレジストの要求特性
(2)EUVレジストの設計指針
・EUVレジスト用ポリマー
・EUVレジスト用酸発生剤
(3)EUVレジストの課題と対策
・感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
・ランダム欠陥(Stochastic Effects)
(4)最新のEUVレジスト
・分子レジスト
・ネガレジスト
・ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
・フッ素含有ポリマーレジスト
・無機/メタルレジスト
3-4.自己組織化(DSA)リソグラフィ
(1)グラフォエピタキシー用材料
(2)ケミカルエピタキシー用材料
(3)高χ(カイ)ブロックコポリマー
3-5.ナノインプリントリソグラフィ
(1)加圧方式
(2)光硬化方式
・光硬化材料
・離型剤
4.レジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向