※オンライン会議アプリzoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。
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1.はじめに
1-1 「めっき技術」の展望
1-2 各種半導体実装基板で用いられるめっき技術
2.いろいろな半導体実装基板と製造プロセス
2-1 既存の半導体実装基板
2-2 最近登場の半導体実装基板
3.導体形成のための銅めっき
3-1 導体形成のプロセス
3-2 電解銅めっき
3-2-1 電解銅めっき設備
3-2-2 電解銅めっき液
3-2-3 添加剤,フィルドビア
3-2-4 めっき液の管理方法
3-3 無電解銅めっき
3-3-1 無電解めっきの原理
3-3-2 前処理プロセス
3-3-3 無電解銅めっき液
3-3-4 フルアディティブプロセス
3-4 銅めっき皮膜の機械的特性
4.電流密度分布(めっき膜厚分布)
4-1 電流密度分布の理論
4-2 膜厚均一化の手法
5.接合のための表面処理
5-1 表面処理の目的
5-2 各種電解めっき
5-3 各種無電解めっき
6.おわりに これからの動向