真空の基礎からスパッタリング装置における重要な要素を学ぶ！
膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータ、希望の膜を得るための方法、日常の運用においてチェックしておくべき事項、トラブルが生じた際の対処方法を解説します！
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
◆受講者限定で見逃し配信（1週間：何度でも視聴可）を予定しております。
１． スパッタリング技術者のための真空の基礎
1.1 気体分子運動論
1.2 真空と表面
２． 真空装置の基礎
2.1 真空の作り方
2.2 真空の測り方
2.3 成膜装置の基本構成
３． プラズマの基礎
3.1 プラズマとは何か
3.2 プラズマの作り方
４． 真空成膜装置
4.1 真空成膜装置の種類
4.2 スパッタリング装置の構成・仕組み
（1）なぜマグネトロンスパッタか？
（2）スパッタリング装置のメリット・デメリット
５． スパッタリング装置における成膜条件だしのポイント
5.1 膜質向上のための取り組み
（1）膜質と生産性のトレードオフ
（2）基板加熱とイオンアシスト
5.2 密着性向上のための取り組み
（1）密着性は何で決まるか？
（2）密着性改善の方法1：前処理条件から
（3）密着性改善の方法2：成膜条件から
（4）密着性改善の方法3：膜構成から
６． 現場のトラブルシューティング
6.1 日々の管理項目
6.2 リークトラブルの原因と対応策
6.3 放電トラブルの原因と対応策
6.4 何が壊れやすいか？：必要なバックアップ
【質疑応答】