ＩＣＰ発光分析法の基礎と条件設定・前処理のノウハウ
セミナータイトル
ICP発光分光分析法の原理・特長、干渉およびその抑制方法、前処理法、測定における注意点などについて2名の講師が分かりやすく解説する！
ＩＣＰ発光分析法の基礎と条件設定・前処理のノウハウ
セミナー概要
セミナー番号 | 100804 |
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| 会 場 | 江東区産業会館 第1会議室 【東京・江東区】 |
日 時 | 平成22年8月24日（火） 13：00～16：30 |
| 定 員 | 30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。 |
聴講料 | 1名につき49,980円（税込、資料付き） ※2名同時にお申し込みいただいた場合、2人目は無料でご参加いただけます。 （ただし、申込時に2名とも案内登録をしていただいた場合に限ります。） ※大学生、教員のご参加は、1名に付き受講料10,500円です。 （ただし、企業に在籍されている研究員の方は除きます。また、2人目無料も適用外です。） |
講座の内容
【講座趣旨】
ICP発光分光分析法の原理、特長
ICP発光分光分析法の干渉およびその抑制方法
ICP発光分光分析法の前処理法
ICP発光分光分析法の測定における注意点
など
【プログラム】
第１部 ICP発光分光分析法の基礎
1-1 ICP発光分光分析法の原理
1-2 導入系
1-3 光学系
1-4 検出器
1-5 データ処理
1-2 導入系
1-3 光学系
1-4 検出器
1-5 データ処理
第２部 ICP発光分光分析法の干渉およびその抑制方法
2-1 物理干渉
2-2 化学干渉
2-3 分光干渉
2-4 イオン化干渉
2-5 干渉抑制方法
2-2 化学干渉
2-3 分光干渉
2-4 イオン化干渉
2-5 干渉抑制方法
第３部 ICP発光分光分析法の前処理法
3-1 マイクロウェーブの原理、湿式分解法との比較
3-2 マイクロウェーブ試料分解装置を用いたサンプル分解
3-3 その他応用事例
3-2 マイクロウェーブ試料分解装置を用いたサンプル分解
3-3 その他応用事例
第４部 ICP発光分光分析法の測定における注意点
4-1 ネブライザーガス流量による影響
4-2 測光高さによる影響
4-3 RF出力による影響
4-4 水素化物発生法
4-5 有機溶媒の直接測定
4-6 作業上の汚染
4-7 その他
4-2 測光高さによる影響
4-3 RF出力による影響
4-4 水素化物発生法
4-5 有機溶媒の直接測定
4-6 作業上の汚染
4-7 その他
（質疑応答・名刺交換・個別相談）
| 関連セミナーのご案内 | |
7月21日（水） | |
8月30日（月） |
